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第一四四五章 再引进一条

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中有pGcA半导体公司和曙光东芝晶圆公司的位置。

既然东芝公司愿意投入巨资为曙光东芝晶圆公司引进一条180nm制程工艺的半导体生产线,15亿美元的价格也有诚意,资金雄厚的曙光通讯集团当然不会扫了东芝公司的面子,作为曙光东芝晶圆公司的控股股东,孙健顺便也为bSEc销售40台250nm制程工艺的光刻机。

去年6月从GcA引进的180nm制程工艺的半导体生产现花费了20亿美元(包括基建工程和培训等),其中4亿美元的订单给了bSEc。

bSEc在9月13日研制成功180nm制程工艺的光刻机,如今已能量产,还没有拿到订单,虽然同GcA和Nikon还有一代的技术差距,但申请公司发明专利的同时广而告之,给Nikon和美国商务部施压。

今年7月后,ASmL、canon、SVG先后研制成功90nm制程工艺的光刻机,给GcA和Nikon很大的压力,不得不降价。

全球半导体产业从今年第4季度开始,订单同比明显减少,专家预测,衰退周期已经开始,光刻机产业也不能避免,账上有50亿多美元现金流的GcA,在5月份的董事会

上,孙董事长已做出决定,生产部门除完成订单业务外,将停止生产。生产部门的管理层和普通员工,除了享受带薪休假外,停工期间,生产部门的管理层和普通员工将降薪50%,回家休息,大家共渡难关。

GcA和Nikon去年3、5月就先后量产了12英寸晶圆、90nm制程工艺的光刻机,但如今都被193nm波长的世界性难题卡住了。

科学家们发现,193nm波长光刻机的极限制程工艺是90nm,再往下就很难实现了,如何突破90nm,跨入65nm制程工艺,成为阻挡在所有光刻机公司面前的拦路虎。

虽然提出了157nm干式光刻技术和EUV技术,但一晃过去近2年,GcA和Nikon的科学家们还没有攻克65nm制程工艺,不然的话,早就研发成功65nm制程工艺,甚至45nm制程工艺的光刻机了。

前世,光刻机产业在193nm波长上卡了将近20年!

bSEc研究院集中力量正在研制90nm制程工艺的光刻机,一旦研制成功,在光刻机行业就可以同GcA和Nikon等公司平起平坐了。

这也是重生者有信心带领bSEc赶上GcA和Nikon的机会!


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